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标题: CN200910236733-研磨液、研磨液的制备方法和使用该研磨液的研磨方法 [打印本页]

作者: admin 时间: 2016-7-13 17:32
标题: CN200910236733-研磨液、研磨液的制备方法和使用该研磨液的研磨方法
研磨液、研磨液的制备方法和使
用该研磨液的研磨方法
申请号：200910236733.4
申请日：2009-11-05
申请(专利权)人北京天科合达蓝光半导体有限公司中国科学院物理研究所
地址100190 北京市海淀区中关村东路66号1号楼2005室
发明(设计)人张贺娄艳芳胡伯清王锡铭彭同华陈小龙
主分类号C09G1/02(2006.01)I
分类号C09G1/02(2006.01)I B24B29/00(2006.01)I
公开(公告)号101979450A
公开(公告)日2011-02-23
专利代理机构
代理人

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