打破暴利！国产碳化硅外延炉已实现批量销售

昂贵的进口外延炉

目前碳化硅芯片，如果想最大程度利用其材料本身的特性，较为理想的方案便是在碳化硅单晶衬底上生长外延层。实际应用中，宽禁带半导体器件几乎都做在外延层上，碳化硅抛光片本身只作为衬底。

我国碳化硅外延片研发工作开发于“九五计划”，材料生长技术及器件研究均取得较大进展。主要研究单位有中科院半导体研究所、中国电科13所和55所、西安电子科技大学等，产业化公司主要有东莞天域、瀚天天成以及河北普兴等等。

目前我国已研制成功6英寸SiC外延晶片，且基本实现商业化。但是碳化硅外延炉还主要依赖这四家国外公司。

1、德国的Aixtron：特点是产能比较大；

2、意大利的LPE，属于单片机，生长速率非常大。

3、日本的TEL和Nuflare，其设备的价格非常昂贵，其次是双腔体，对提高产量有一定的作用。其中，Nuflare是最近几年推出来的一个非常有特点的设备，其能高速旋转，可以达到一分钟1000转，这对外延的均匀性是非常有利的。同时它的气流方向不同于其他设备，是垂直向下的，所以它可以避免一些颗粒物的产生，减少滴落到片子上的概率。
据悉，目前这四家公司的碳化硅外延炉的报价都在千万量级。昂贵的设备成本对碳化硅技术的广泛应用造成了一定的负面影响。

国产碳化硅外延炉实现规模销售

由于该领域存在较高的利润空间，所以近年来关于国产碳化硅外延炉的消息已经屡见不鲜。近日据集微网报道，晶盛机电在接受机构调研时表示，公司碳化硅外延设备已通过客户验证，并实现批量销售。

除了外延炉，在碳化硅领域，晶盛机电的产品主要还有碳化硅长晶、抛光设备以及6英寸导电型碳化硅衬底片。继实验室成功长出6英寸碳化硅晶体后，公司建立6英寸及以上尺寸碳化硅材料研发实验线，目前研发产品已通过部分下游客户验证。

晶盛机电近年来发展迅速

近年来，晶盛机电发展迅猛。晶盛机电在接受机构调研时表示，截至2022年3月31日，公司未完成设备合同总计222.37亿元，其中未完成半导体设备合同13.43亿元（以上合同金额均含增值税）。

据悉，晶盛机电积极布局“长晶、切片、抛光、CVD”四大核心环节设备的研发，在半导体关键设备领域实现国产化突破。公司通过承担国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”项目的“300mm硅单晶直拉生长装备的开发”和“8英寸区熔硅单晶炉国产设备研制”两项课题，实现集成电路12英寸半导体长晶炉的量产突破。

晶盛机电经过多年的科研攻关和技术创新，已掌握了单晶硅生长全自动控制技术、热场仿真技术、金刚线切片、研磨、双面抛光、单面抛光、边缘抛光等多项先进技术，成功开发了6-8英寸用晶体滚磨机、截断机、切片机、双面研磨机、边缘抛光机、单面抛光机、外延生长、LPCVD等设备并形成销售；同时成功开发了12英寸用晶体滚圆磨机、截断机、双面研磨机、边缘抛光机、双面抛光机、最终抛光机等设备。

在半导体8-12英寸大硅片设备领域，晶盛机电产品在晶体生长、切片、抛光、外延等环节已基本实现8英寸设备的全覆盖，12英寸长晶、切片、研磨、抛光等设备也已实现批量销售，产品质量已达到国际先进水平。公司将继续巩固晶体生长设备领域技术和规模优势，创造技术护城河，推动新产品迭代，提升对产业发展的引领能力，进一步延伸产品体系，在晶体生长、切片、抛光及CVD四大关键环节设备布局，实现设备竞争力国内领先。

来源：电子新材料