外延是指在碳化硅衬底的表面,生长出的一层质量更高的单晶材料,在导电型碳化硅衬底表面生长一层碳化硅外延层,称为同质外延;在半绝缘型碳化硅衬底上生长氮化镓外延层,则称为异质外延。

碳化硅晶体在生长过程中会不可避免地产生缺陷、引入杂质,导致衬底材料的质量和性能都不够好,而外延层的生长可以消除衬底中的某些缺陷,使晶格排列整齐。目前几乎所有的器件都是在外延上实现的,因此外延的质量对器件的性能有着决定性的影响。


根据 CASA 统计,2022年SiC功率电子市场规模约为21亿美元,预计到 2027年SiC功率电子市场规模接近80亿美元,复合增长率为 30%。外延占碳化硅功率器件成本结构的 23%,价值量占比较高。


出于降本的需要,国内企业在6英寸碳化硅外延生长上已经实现逐步放量,并开始延展至对8英寸外延的研发投产。


本篇报告包括对碳化硅外延定义、分类、工艺、设备、市场规模和发展趋势的总结和展望,还为大家罗列了目前国内主要碳化硅外延片供应商。


报告内容如下:

来源:艾邦半导体网

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