由湖北九峰山实验室首席专家魏强民、北京怀柔实验室、华中科技大学的联合研究团队在学术会议 2025 22nd China International Forum on Solid State Lighting & 2025 11th International Forum on Wide Bandgap Semiconductors (SSLCHINA: IFWS) 发布了一篇名为 Research on β-Ga2O3 Photoconductive Assisted Switch(β-Ga2O3 光导辅助开关研究)的文章。本文第一作者为湖北九峰山实验室的李明哲。

01 背景

β-Ga2O3 的禁带宽度高达 4.8 eV,这使其临界击穿电场达到约 8 MV/cm,远超硅(Si)和碳化硅(SiC)。其模拟本征电子迁移率为 250 cm2/Vs,饱和速度高达 2.0 × 107 cm/s。氧化镓体单晶可以通过多种成本效益高的熔体法大规模生长,具有高质量和大尺寸的优势,极具商业前景。但缺乏 p 型 β-Ga2O3 是制约其技术发展的最大挑战之一。这导致难以设计具有低漏电流、高热稳定性和优异浪涌处理能力的双极型器件。目前研究多集中于单极器件,虽然异质结技术被用于弥补 p 型缺失,但界面问题往往限制了材料特性的完全发挥。为了在不依赖 p 型氧化镓的前提下发挥其材料潜力,研究团队提出了一种结合光电技术的新型概念,光电导辅助开关(PCAS),其原理有别于传统光导半导体开关(PCCS)。电子控制单元为低压控制开关,其结构可采用 Fin 结构、JFET 或 pn 二极管等形式,用于控制整个 PCAS 晶体管的导通与截止。当 PCAS 导通时,光控制单元将协同低压控制开关进一步开启。该单元需采用沟槽结构,有助于光线更易穿透耗尽区并产生光致载流子。耐压单元由 Ga2O3 外延层与衬底构成,高电阻衬底能借助 Ga2O3 卓越的材料特性增强外延层耐压能力,从而充分发挥 β-Ga2O3 的潜在性能。

02 主要内容

本研究提出一种基于 β-Ga2O3 的光电技术,开发出光导辅助开关(PCAS)器件。该器件通过低掺杂外延层与衬底,在关断状态下实现千伏级阻断能力;而在导通状态下,光照诱导光导效应(光导调制)快速产生空穴对,降低导通电阻并实现大导通电流。通过 Silvaco TCAD 仿真验证了该 PCAS 的工作原理,结果显示其开关比超过 3 个数量级。这充分展现了 β-Ga2O3 技术在先进电力系统中的巨大应用潜力。

03 创新点

•该结构巧妙地规避了 p 型掺杂缺失和异质结界面不理想这两大障碍,在不依赖 p 型氧化镓的情况下实现了高性能应用。

•实现了在关断时阻断数万伏高压,而在开启时产生大能量脉冲电流的能力。

•展示了 β-Ga2O3 技术在先进电力系统中的巨大应用潜力。

05 总结

本研究提出了一种基于 β-Ga2O3 的光电集成技术,并开发出光导辅助开关(PCAS)器件。该器件通过低掺杂外延层与衬底,在关断状态下实现千伏级阻断能力;而在导通状态下,光照诱导光导效应(光导调制)快速产生空穴对,降低导通电阻并实现大导通电流。Silvaco 仿真结果验证了该 PCAS 的运作原理与可行性,凸显了 β-Ga2O3 技术在先进电力系统中的巨大潜力。

图1. 提出的 β-Ga2O3 PCAS 的示意性横截面图。

图2. 提出的 β-Ga2O3 光致电容耦合器等效示意图。

图3. 关断状态下 FinFET 在 650 V 电压下的电场分布。

图4. Silvaco TCAD 对 FinFET 的 PCAS 模拟结果。(a)暗态关断电流密度。(b)1W/cm2 光照强度下的导通电流密度。

图5. β-Ga2O3 MOSFET的光学图像。

DOI:

doi.org/10.1109/SSLCHINAIFWS69008.2025.11315036

文章由湖北九峰山实验室的李明哲供稿。

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来源:亚洲氧化镓联盟

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