在国家“十五五”规划明确支持宽禁带半导体产业提质升级的背景下,2026年2-3月,我国产业界在大尺寸晶圆、关键装备国产化及前沿应用拓展等方面取得一系列突破性进展。

碳化硅(SiC)领域,8英寸晶圆实现量产与高良率(90%)爬坡,12英寸技术同步推进。两大应用突破标志性极强:比亚迪1500V模块量产下放,重塑车端高压基准;SiC成功切入AI数据中心与高压直流输电项目,打开万亿级新基建市场。

氮化镓(GaN)技术聚焦散热核心瓶颈,GaN-on-Diamond路线获关键进展。产业生态围绕英伟达定调的800V AI数据中心架构展开卡位,国内外企业加紧布局。

超宽禁带半导体迎来产业化前奏。氧化镓实现全球首块12英寸单晶制备,MOSFET器件耐压突破9kV;金刚石8英寸热沉片产线投产,并展现量子传感等颠覆性潜力;氮化铝衬底产线落地,瞄准高端射频市场。

当前,政策、资本、技术、市场形成强大合力,推动产业全链条迈向高质量发展。联盟愿与各位携手,共抓机遇,共促繁荣。

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目 录

政策资讯

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“十五五”规划纲要:明确加快宽禁带半导体产业提质升级,推动超宽禁带半导体产业化发展

碳化硅领域资讯

【技术前沿】

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天成半导体成功制备出14英寸碳化硅单晶材料

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甬江实验室攻克6-8英寸超薄碳化硅晶圆加工难题

3

天一晶能突破6英寸3C-SiC晶圆技术

4

浙大突破PPVT法,成功生长100mm超长SiC单晶

【企业动态与合作】

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比亚迪“惊蛰”发布:1500V SiC模块量产下放,定义1000V高压新基准

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天域半导体与韩国EYEQ Lab签署SiC外延片战略供应协议

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芯联集成与浩思动力合作定制开发高性能IGBT/SiC功率模组

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英飞凌与DG Matrix携手,以碳化硅技术推动固态变压器在AI数据中心应用

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三星电子:SiC样品年内量产,8英寸GaN产线就绪

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凌锐半导体国产首款SiC MOS固态变压器实现批量供货

7

安海半导体国产超高压SiC芯片高良率量产

8

SiC成功切入高压直流输电市场

【新产品/新技术】

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中科院电工所攻克高温高密难题,SiC控制器功率密度达47.8 kW/L

2

Wolfspeed发布全球首款10kV SiC MOSFET

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Wolfspeed推出基于300mm碳化硅技术的新一代AI数据中心先进封装基础平台

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东方日升首发全液冷碳化硅储能一体机

5

西湖仪器:发布12英寸SiC激光剥离系统

6

国产设备获得新突破

【项目建设/投融资信息】

1

SK启方半导体完成8英寸SiC工艺平台开发,良率90%

2

多家企业投融资信息

氮化镓领域资讯

【技术前沿】

1

北大&化合积电:GaN-on-Diamond直接异质外延重大突破

2

西电、武大、青禾晶元在GaN-on-Diamond技术获重要进展

【企业动态与合作】

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英伟达GTC 2026定调:800VDC架构落地,GaN/SiC成AI电源链核心增量

2

英诺赛科GaN产品打入谷歌AI硬件供应链

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ROHM携手台积电:强攻AI与EV用GaN

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新风光电子与远山新材料达成氮化镓合作,聚焦高压氮化镓功率器件

【新产品/新技术/投融资信息】

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汉骅半导体发布12英寸硅基GaN功率外延,打通大尺寸降本路径

2

瑞萨发布业界首款双向650V耗尽模式GaN开关

3

多家企业投融资信息

超宽禁带半导体领域资讯

【金刚石】

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国内首条8英寸金刚石热沉片生产线投产

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国创中心(苏州)成功研制2-8英寸晶圆的超高真空常温直接键合装备,助力金刚石散热工程化

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北京大学开发“全金刚石-歧管微通道”散热器,突破传统散热技术极限

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郑州大学首次合成毫米级高纯度块状六方金刚石

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吉林大学邹广田院士团队攻克2英寸单晶金刚石制备核心技术

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日本金泽大学金刚石NV色心埋层生长技术获突破,实现高取向阵列

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德国柏林洪堡大学研究团队实现金刚石色心最快量子操控

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中科大团队基于金刚石NV色心实现室温大气下界面“类冰”水层量子传感

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香港大学发现柔性金刚石薄膜具备压电效应

【氧化镓】

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进化半导体/苏州燎塬-无贵金属工艺制备全球首个直拉法3英寸(011)氧化镓单晶

2

富加镓业成功制备全球首块12英寸氧化镓单晶

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