近日，杭州富加镓业科技有限公司率先开展12英寸氧化镓MOCVD外延技术研发，成功将8英寸氧化镓MOCVD外延工艺首次外推至12英寸。

关键指标：厚度均匀，质量过硬

此次基于8英寸氧化镓MOCVD外延工艺实现的12英寸薄膜的厚度均匀性优于6%，外延后表面自然平整度较高，标志着大尺寸氧化镓MOCVD外延技术向产业化迈出了更为坚实的一步。

▲ 8英寸（左）与12英寸（右）氧化镓外延厚度分布对比

富加镓业于2026年3月制备出厚度10微米级8英寸同质外延片，其厚度均匀性优于3%，表面粗糙度（RMS）低于1 nm，XRD摇摆曲线半高宽（FWHM）仅64.8弧秒，可直接用于功率器件制备。

▲ 8英寸氧化镓同质外延表面粗糙度（AFM）及XRD摇摆曲线（FWHM=64.8弧秒）

从8英寸到12英寸，产业化加速提档

12英寸外延单片器件的产出理论上是8英寸的2.25倍，开发大尺寸外延片将大幅降低氧化镓器件的制造成本，加速其从实验室走向产业化的进程。结合公司已量产的6英寸、8英寸衬底及全球首发的12英寸氧化镓单晶，富加镓业正在构建覆盖"装备—衬底—外延"全链条的氧化镓材料供应体系，为下游器件企业提供一站式材料解决方案。

富加镓业将继续秉承"让世界用上好材料"的使命，以更优质的产品推动超宽禁带半导体产业迈向更广阔的未来。

信息来源： 富加镓业

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