聚力材料协同，共筑产业新局｜万华电子材料携手安储科技达成战略合作

近日，万华电子材料有限公司与张家港安储科技有限公司正式达成战略合作，标志着双方在新材料领域开启长期深度合作。

未来，双方将协同深耕现有市场、联合开拓新兴领域，并推进新材料联合研发，打造半导体材料配套方案，共享渠道与技术资源，携手推动半导体材料国产化。

双方将持续深化产业链协同，完善本土半导体材料供应链，助力国内半导体产业发展。

关于安储科技

张家港安储科技有限公司是由在国际知名电子材料企业多年研发和生产经验的博士和专业人才所创立，专注于瞄准世界先进水平的先进电子材料研发、生产和销售。公司已经获得姑苏领军和张家港重点领军创业企业等荣誉、获评江苏省民营科技企业称号并通过江苏省高新技术企业认定。公司主营产品：配方型功能电子化学品（主要有抛光液、抛光后清洗液、刻蚀液、刻蚀后清洗液、去胶液等）以及电子特气安全存储内置吸附剂的负压钢瓶。

关于万华电子材料

万华化学集团电子材料有限公司是万华化学旗下聚焦半导体CMP（化学机械平坦化）材料领域的核心企业，依托万华化学在聚氨酯领域的深厚技术积淀，专注于CMP研磨垫及配套抛光液的研发、生产与销售。

公司充分发挥从原材料到终端产品的全产业链优势——CMP研磨垫的核心原材料聚氨酯正是万华化学的传统强项，具备先天的原料自给和技术储备优势。产品线覆盖硬质微孔、高平坦化、低划伤及软质多孔等多种类型研磨垫，搭配自研抛光液体系，可针对不同制程需求提供定制化解决方案。

关键耗材组合的国产化突围

当前半导体与高端显示制程对平坦化精度的要求持续提升，CMP研磨垫与抛光液作为关键耗材组合，其材料性能与工艺匹配度直接影响芯片良率与生产效率。

研磨垫产品依托自研预聚物与自主膨胀微球核心技术，实现从原材料、配方设计到表面纹理与沟槽工艺的多尺度调控，可针对不同制程需求进行定制化开发。搭配适配的抛光液体系，协同优化平坦化速率与表面质量，满足从粗抛到精抛的全流程工艺要求，为行业提供高适配、高稳定、可量产的国产化CMP材料解决方案。