026年4月，山东力冠微电子装备有限公司在氧化镓HVPE外延装备领域取得重要技术突破。

在本次突破中，山东力冠专业的博士工艺技术团队采用8英寸蓝宝石衬底，成功验证了氧化镓HVPE外延生长的膜厚均匀性与表面形貌均匀性。

检测结果显示：

• 膜厚超过20μm，膜厚均匀性（以最大偏差计）优于20%，最佳批次均匀性可达5%以内，与4英寸HVPE设备的外延水平相当；
• 生长速率稳定在10~20 μm/h；
• 蓝宝石衬底上的异质外延形貌均匀性表现良好。

以上数据充分表明，8英寸HVPE外延生长过程具备出色的可控性与一致性。

为什么这项突破值得关注？

在氧化镓功率器件中，外延层作为漂移区，承担着承受高电压的关键任务，其厚度与器件的击穿电压呈正相关。以万伏级器件为例，外延层厚度通常需要达到几十微米。若采用传统MOCVD外延技术（生长速率仅为1~2微米/小时），效率明显不足。而HVPE外延技术，则提供了一个更具优势的理想选择。

山东力冠此次在8英寸尺度上实现的高均匀性、高一致性成果，为氧化镓功率器件向更大尺寸、更高电压等级迈进奠定了坚实的技术基础。

山东力冠始终专注于高端半导体设备的研发与制造，以专业铸就卓越设备，以匠心为客户持续创造价值。

山东力冠8寸HVPE设备