关于《碳化钽涂层表面金属含量的测定—电感耦合等离子体发射光谱法》团体标准立项决议

中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟2026年度第二次团体标准评审会于2026年4月28日在中国科学院半导体研究所3号楼322会议室举行，会议采用线下及线上（腾讯会议）相结合的形式召开，会上，经联盟标准化委员会与会委员表决，一致同意通过《碳化钽涂层表面金属含量的测定—电感耦合等离子体发射光谱法》（牵头单位：江苏天科合达半导体有限公司）的立项申请。

中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟

2026年4月28日

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