化合积电自主研发生产的金刚石基氮化铝(AIN on Diamond),作为金刚石与氮化镓的缓冲层,具有均匀性好,可简化外延生长步骤,降低成本,减小异质衬底与外延层的晶格失配性等独特显著优势,为实现高质量GaN/AlGaN材料的外延制备提供保障。

化合积电公司金刚石基氮化铝产品发布

AIN on Diamond 生长工艺流程图


产品参数

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说明:上述参数值随实际使用的检测设备或软件不同会略有差别


表征结果(200nm为例)


1.氮化铝薄膜SEM图(50K)

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2.金刚石基氮化铝AFM形貌图,Ra 为 1.74 - 2.84nm

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3.金刚石基氮化铝(0002)XRD摇摆曲线,FWHM约为2.915°

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来源:化合积电


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