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摘要: 近日,中国电科48所自主研发的8英寸碳化硅外延设备关键技术再获突破。碳化硅外延炉是第三代半导体碳化硅器件制造的核心装备之一。此次“全新升级”的8英寸碳化硅外延设备,具备更快、更好、更稳定的特点,通过改进激 ...

近日,中国电科48所自主研发的8英寸碳化硅外延设备关键技术再获突破。

碳化硅外延炉是第三代半导体碳化硅器件制造的核心装备之一。此次“全新升级”的8英寸碳化硅外延设备,具备更快、更好、更稳定的特点,通过改进激光视觉定位、晶圆自纠偏等技术,设备自动化性能更加成熟,提升产品生产效率。设备还成功引入新的掺杂技术,进一步提升产品良率,持续降低生产成本。


未来,48所将持续加强关键核心技术攻关,聚焦产业链重点环节补链固链强链,推动形成产学研紧密合作、上下游链条打通的协同创新局面,为我国第三代半导体产业高水平科技自立自强贡献“装备力量”。


来源:中国电科

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